获取报价
即刻留言 
添加微信咨询报价
服务热线
191-3809-6664
结构组成：
立式PECVD系统，由KJ-V1200真空立式管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、真空测量系统组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
产品介绍：
这款KJ-V1200-S60LD系统以含钼电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，真空泵接口，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
技术参数：
立式PECVD系统，由KJ-V1200真空立式管式炉、石英真空室、射频电源、供气系统、真空测量系统组成。
主要特点：
1、通过射频电源把石英真空室内的气体变为离子态。
2、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积所需的温度更低。
3、可以通过射频电源的频率来控制所沉积薄膜的应力大小。
4、PECVD比普通CVD进行化学气相沉积速率高、均匀性好、一致性和稳定性高。
5、广泛应用于：各种薄膜的生长，如：SiOx, SiNx, SiOxNy 和无定型硅(a-Si:H) 等。
产品介绍：
这款KJ-V1200-S60LD系统以含钼电阻丝为加热元件，采用双层壳体结构和30段程序控温仪表，移相触发、可控硅控制，炉膛采用氧化铝多晶纤维材料，炉管两端能不锈钢法兰密封，不锈钢法兰上安装有气嘴、阀门和压力表，真空泵接口，具有温场均衡、表面温度低、升降温度速率快、节能等优点。
技术参数：
|
产品名称 |
立式PECVD系统 |
|
产品型号 |
KJ-V1200-S60LD |
|
立式管式炉 |
|
|
炉膛模式 |
立式开启式 |
|
炉膛材料 |
氧化铝耐火纤维 |
|
加热元件 |
含钼加热丝 |
|
极限温度 |
1200℃ |
|
工作温度 |
≤1100℃ |
|
升温速率 |
≤20℃(建议:15℃/min) |
|
加热温区 |
单温区(可根据客户需求定制) |
|
温区总长度 |
440mm(可根据客户需求定制) |
|
炉管材质 |
高纯石英 |
|
炉管尺寸 |
60mm*1600mm(可根据客户需求定制) |
|
密封方式 |
304不锈钢真空法兰一套(含密封硅胶圈) |
|
控制模式 |
触屏 30段智能PID程序控温 预留通讯接口 |
|
控温精度 |
±1℃ |
|
温度曲线 |
多段"时间—温度曲线"任意可设 |
|
测温元件 |
N型热电偶 |
|
气路系统 |
|
|
工作温度 |
5--45℃ |
|
气体通道 |
可同时连接3种气源 |
|
流 量 计 |
质量流量计 |
|
A路量程 |
0～500SCCM |
|
B路量程 |
0～500SCCM |
|
C路量程 |
0～500SCCM |
|
气路压力 |
-0.1～0.02 MPa |
|
截止阀 |
不锈钢材质 |
|
气体连接管 |
1/4不锈钢管 |
|
冷却 |
风冷 |
|
数显真空计及连接件 |
|
|
防腐数显真空计 |
防腐数显真空计安装在不锈钢法兰上 |
|
真空泵组(相关连接配件) |
|
|
真空泵 |
|
|
汽化系统 |
|
|
电源 |
220v 50Hz 功率： 2200W |
|
蠕动泵 |
精确度：+/- 0.5% FS 流量: 0 - 10 ml/min，可调，最小速率0.1ml/min 将吸液管放置在溶液容器中，蠕动泵可自动抽取液体 |
|
加热＆控温 |
流体和气体会在一个不锈钢罐中加热，此罐已经安装在壳体中，加热最高温度550ºC 不锈钢出气管处有二次加热带，防止蒸汽在输出过程中冷凝，二次加热带加热最高温度200ºC |
|
气体流量控制 |
气体流速通过浮子流量计控制 量程：0.2- 2L/min（可调） 一压力表安装在壳体面板上，可以测出液气混合罐中的气体压强 面板上安装有两个不锈钢针阀，以控制气体的进出 出气口尺寸：1/4”OD的不锈钢口 |
|
售后服务 |
质保一年，终身保修（耗材类：高温密封圈、炉管、加热元件等不属于质保范围） |