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CVD电炉适合处理哪些金属?

时间:2024-10-15 点击次数:0
  

CVD电炉,即化学气相沉积(CVD)管式炉,是一种在材料科学和工程领域中广泛应用的热处理设备。它通过将气体混合物输送到炉中,在高温下使气体分解,产生的原子或分子沉积在固体衬底上,从而制备出薄膜、纳米颗粒及其他新型材料。下面就来看看CVD电炉适合处理哪些金属吧!W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司

比较常用的低真空CVD电炉W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司
比较常用的低真空CVD电炉(点击图片查看产品详情)
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钨(W):钨是一种高熔点、高硬度的金属,常用于高温、高真空和强腐蚀环境下的应用。CVD电炉可以用于沉积钨薄膜,以满足特定领域的需求。W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司
钛(Ti):钛具有良好的耐腐蚀性、高强度和低密度等特点,在航空航天、医疗等领域有广泛应用。CVD电炉可以沉积钛薄膜或钛氮化物(TiN)薄膜,用于提高材料的性能。W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司
铝(Al):铝是一种轻质、耐腐蚀的金属,常用于航空航天、汽车和建筑等领域。CVD电炉可以用于铝薄膜的沉积,以满足相关应用的需求。W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司
此外,CVD电炉还可以用于沉积其他金属薄膜,如铜(Cu)、镍(Ni)等,具体取决于应用领域和所需材料的性能要求。
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除了金属薄膜的沉积外,CVD电炉在半导体工业中还用于沉积绝缘层(如二氧化硅SiO₂和氮化硅Si₃N₄)、掺杂层(如磷硅玻璃PSG和硼硅玻璃BSG)、高k电介质材料(如铪氧化物HfO₂和锆氧化物ZrO₂)以及阻挡层(如钛氮化物TiN和钽氮化物TaN)等。这些材料在半导体器件的制造中起到很重要的作用。W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司

大管径真空CVD电炉W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司
大管径真空CVD电炉(点击图片查看产品详情)
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总的来说,CVD电炉适合处理多种金属,包括钨、钛、铝等,并可根据具体应用需求沉积不同类型的金属薄膜。同时,它还在半导体工业中具有广泛的应用前景。点击了解更多CVD电炉或者点击咨询在线客服定制各种不同型号电炉!W3w管式炉|真空炉|箱式炉|气氛炉-郑州科佳电炉有限公司

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