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产品介绍:
PECVD射频旋转管式炉适用于粉体材料的表面薄膜沉积。系统由高功率射频电源（500W，13.56MHz）、真空系统、旋转管式炉组成。利用等离子体特性来控制或影响气相反应和材料表面的化学反应过程，并在适当的温度下沉积薄膜。PECVD淀积的薄膜具有良好的电学性能、良好的衬底附着性以及不错的台阶覆盖性，正由于这些优点使其在大规模集成电路、光电器件、MEMS等领域具有广泛的应用。属于PECVD设备的一种。
PECVD射频旋转管式炉实拍
产品优势:
1、PECVD具有基本温度低、沉积速率快、成膜质量好、针孔较少、不易龟裂等；
2、PECVD工艺中由于等离子体中高速运动的电子撞击到中性的反应气体分子，就会使中性反应气体分子变成碎片或处于激活的状态容易发生反应；
3、借助射频等使含有薄膜组成原子的气体，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜；
4、真空系统由旋片真空和数显真空计组成，冷态极限真空度可达10Pa；
5、采用快接法兰密封，装卸方便快捷；
6、加热区域采用单温区，加热区200mm，操作简便，密封可靠，综合性能指标较高。 7、炉管采用定制变径炉管，管壁内带有石英拨料台，让物料受热更充分。炉管360℃旋转，旋转速度可调。
8、温控系统采用PID智能化程序控温，可以设置多段升降温程序。
9、法兰上带有进出气旋转接头，可以通入氮气、氩气等惰性保护气体，可在气氛环境下使用。
10、安全防护，具有超温保护功能，当温度超过允许设定值后，自动报警保护功能，操作安全可靠。
13、我司具有自行研发设计生产加工的能力，我们的机器提供终身配件更换和升级服务。
PECVD射频旋转管式炉实拍
产品参数:
| 产品名称 | PE旋转管式炉 |
| 产品型号 | KJ-TX1100-S50LK1 |
| 炉膛材料 | 炉膛采用氧化铝多晶纤维 |
| 炉管尺寸 | 两端直径约Φ30mm，中间尺寸Φ50mm 总长约1200mm |
| 加热区 | 200mm |
| 炉管材质 | 石英炉管 |
| 工作温度 | ≤1000℃ |
| 最高温度 | 1100℃ |
| 加热元件 | 合金加热丝 |
| 控温精度 | ±1℃ |
| 加热速率 | 0-20℃/min， 建议10℃/min，可根据实验工艺进行调节 |
| 温度测试元件 | K型热电偶 |
| 控温系统 | 采用智能化多段PID可编程控制 温度控制系统采用人工智能调节技术，具有 PID 调节、自整定功能并可编制多段升降温程序； 1、采用PID 方式调节控温，可设置多段升降温程序 2、控温精度±1ºC 3、具有过温保护 断偶保护过温或断偶时电炉加热电路自动切断 4、仪表具有温度自整定的功能 |
| 密封方式 | 采用磁流体和真空法兰的密封方式，密封效果更好 |
| 旋转速率 | 15rpm/min 可调 |
| 旋转结构 | 旋转方式，炉管可以360℃旋转，炉体可倾斜 |
| 工作电压 | AC 220v 50Hz |
| 加热功率 | 2KW |
| 真空系统 | 1、采用DRV-10旋片真空泵,冷态极限真空度可达10Pa，真空泵含粉尘过滤器 2、KF快接，不锈钢波纹管，手动挡板阀与法兰，真空泵相连； 3、数显真空计显示 |
| 等离子电源系统 | 功率范围 0-500W（连续可调） 工作频率 13.56MHZ+0.005% 工作模式 连续输出 射频输出阻抗接口 N-type,female（50Ω） 功率稳定度 ≤2W 最大反射功率 70W 电源保护设置 DC过流保护，功放过温保护，反射功率保护 供电电压/频率 单相交流（187V-253V）50-60HZ 冷却方式 风冷 |
| 提供相关配件 | 坩埚钩、高温手套、热电偶、定制炉塞、说明书、保修卡等终身保修 |
| 售后服务 | 12个月质保、终身保修（加热元件、炉管等随机赠送配件不属于质保范围） |
PECVD射频旋转管式炉射频系统